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半导体超纯水设备工艺流程

文章出处:沃华远达污水处理 人气:发表时间:2020-05-05 17:23

  半导体超纯水设备工艺流程

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

  半导体超纯水设备顾名思义主要用于半导体加工和生产,以上是半导体超纯水设备的几种制水工艺,希望对您有所帮助。沃华远达拥有一批经过专业系统学习和实践的技术人员,为客户提供整体工程的设计、生产、安装、调试、售后服务等一系列工作,可为用户提供有关详尽的技术资料及工程实例,并可根据客户需求提供建设超纯水设备生产的解决方案。

此文关键字:各类一体化污水处理设备设备工艺流程
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